苏州美明电子
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光刻加工
超10年MEMS经验团队主导
光刻加工是半导体器件制造工艺中的一个重要步骤，利用曝光和显影在光刻胶层上刻画器件结构，再通过刻蚀工艺将掩膜上的图形转换到衬底上。美明电子目前掌握电子束光刻，步进式光刻，接触式光刻等多种光刻技术。
光刻技术主要应用于半导体器件，集成电路制造过程中。
硅片，玻璃，蓝宝石，柔性材料等
电子束光刻（EBL）：最小线宽50nm，精度可达10%。
步进式光刻：stepper i7/i10/i12，最小线宽350nm，曝光误差±0.1um。
接触，接近式光刻：MA6/BA6光刻机，最小线宽1um，曝光误差±0.5um。
紫外光刻、无掩膜光刻、双面光刻、对准套刻尺寸：8＇6＇4＇2＇以及不规则小片
我们的四大优势
专业为企业科研机构提供研发
代工种类全
全程把控
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严格保密
代工种类齐全,质量佳
一对一服务,层层把关
24小时响应,按计划交付
签订保密协议,代工安全
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