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PI工艺
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聚酰亚胺(PI)由均苯四甲酸二酐(PMDA)和二胺基二苯醚(DDE)在极强性溶剂中经缩聚并流延成膜再经亚胺化而成。聚酰亚胺具有优良的耐高低温、电气绝缘性、粘接性、耐介质性、机械性和耐辐射性,能在-269°C-280°C的温度范围内长期使用,短时可达400°C的高温。美明电子目前掌握PI干膜和PI胶两种类型的器件加工技术,为客户提供优质的技术服务

聚酰亚胺作为一种特种工程材料,被广泛用于航天、微电子、纳米、液晶、分离膜、激光等领域

PI干膜:厚度20-150um,刻蚀深度≤15um

光敏溶液:最小线宽5um,厚度5-20um

非光敏溶液:刻蚀深度0-15um

我们的四大优势
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