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TSV技术
超10年MEMS经验团队主导
工艺介绍
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TSV技术(穿透硅通孔技术),一般简称硅通孔技术,是三维集成电路中堆叠芯片实现互联的一种新的技术解决方案。TSV能够事芯片在三维方向堆叠的密度最大、芯片之间的互连线最短、外形尺寸最小,并且大大改善芯片速度和低功耗的性能。美明电子目前掌握TSV最新技术,能够帮客户完成TSV个性化要求。
技术应用
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TSV技术作为微电子制造最具前途的技术之一,目前已经广泛应用于MEMS器件,存储器,图像传感器,功率放大器,生物应用设备和多种手机芯片。
工艺能力
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通孔直径:20-30um
深宽比:10:1
通孔材料:铜,金
通孔状态:实心孔,空心孔。
我们的
四大优势
专业为企业科研机构提供研发
代工种类全
全程把控
快速响应
严格保密
代工种类齐全,质量佳
一对一服务,层层把关
24小时响应,按计划交付
签订保密协议,代工安全
他们一直选择
美明电子
服务全国各大高校,科研机构 助力科研发展
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