近日，薄膜沉积设备龙头拓荆科技发布2022年半年报，公司实现营业收入5.23亿元，同比增加364.87%；归属于上市公司股东的净利润约1.08亿元，同比扭亏为盈。

公司表示，营业收入较上年同期增长364.87%，主要原因为：受益于国内半导体行业良好的发展态势，国内晶圆厂扩产带动半导体设备需求增长。公司作为国内半导体薄膜沉积设备主要厂商，持续保持高强度的研发投入，产品竞争力和客户认可度不断提升，销售订单持续增长。报告期内，公司核心产品PECVD设备实现收入4.67亿元，较上年同期增长345.21%；SACVD设备实现收入0.41亿元，ALD设备实现收入0.08亿元。

归属于上市公司股东的净利润较上年同期增加1.28亿元，归属于上市公司股东的扣除非经常性损益的净利润较上年同期增加1.17亿元，较上年同期实现扭亏为盈，主要系：1)公司本期营业收入较上年同期增加4.11亿元，增长了364.87%；2)本期毛利率46.76%，较上年同期的38.34%提高约8.42个百分点；3)公司期间费用率同比有较大幅度降低。经营活动产生的现金流量净额较上年同期增加2.94亿元，主要系公司营业收入大幅增加、回款情况持续良好所致。

据了解，在今年上半年，拓荆科技营收增长主要来自于公司多款薄膜沉积设备销售增长。

具体来看，核心产品PECVD设备实现收入4.67亿元，同比大增345.21%。据了解，拓荆科技PECVD产品基本可覆盖28nm及以上制程的各种类薄膜工艺，包括通用介质薄膜、先进介质薄膜和硬掩膜等。

根据MaximizeMarketResearch预测，全球半导体薄膜沉积设备市场规模在2020年至2025年期间年复合增长率为13.3%，其中PECVD在薄膜沉积设备中应用最为广泛，预计该产品市场仍然会呈现增长趋势。

财报还最新披露，SACVD设备、ALD设备通过客户验收，上半年已形成新增收入，分别为4118.97万元、848.37万元。

据介绍，其中SACVD 产品持续拓展应用领域，BPSG及SA TEOS薄膜工艺在40/28nm逻辑芯片制造领域取得客户验收。截至报告期末，SACVD 产品在12英寸40/28nm以及8英寸90nm以上的逻辑芯片制造领域均已实现广泛应用，并取得了现有及新客户订单。

在其他新产品研发方面，拓荆科技披露，新产品多边形高产能平台、HDPCVD 系列设备、UV Cure设备均完成设计开发，已出货至客户端进行产业化验证，并取得客户订单。

公开资料显示，拓荆科技于今年4月登陆科创板，主要从事高端半导体专用设备的研发、生产、销售与技术服务，主要产品包括等离子体增强化学气相沉积(PECVD)设备、原子层沉积(ALD)设备和次常压化学气相沉积(SACVD)设备三个产品系列，已广泛应用于国内晶圆厂14nm及以上制程集成电路制造产线，与国际寡头直接竞争。公司目前是国内唯一一家产业化应用集成电路PECVD设备和SACVD设备的厂商，也是国内领先的集成电路ALD设备厂商。