外媒引用晶圆代工龙头台积电先前的说法报导指出，即使没有使用ASML 最新的High NA EUV 曝光机，台积电也能做出很好的先进制程。而且，High NA EUV 曝光机价钱太昂贵，使得该设备在2026 年之前没有太大的经济意义。然而，现在看来，台积电可能正在重新考虑这一立场，这情况是来自于台积电总裁魏哲家日前秘密访问ASML 总部所产生。

根据wccftech 的报导，台积电的竞争对手英特尔将自己的生存赌在了在使用High NA EUV 曝光机的晶圆代工业务领域上。事实上，首批几套High NA EUV 曝光机都被英特尔所采购，英特尔预计将在即将推出的intel 18A 节点制程上进行参数试验与技术学习， 然后将其正式纳入在intel 14A 的生产制造流程当中。

相较之下，台积电先前公开表示，其目前的标准NA EUV 曝光机系列，当前仍可以支援生产到2026 年。而其即将采用纳米片的晶体管设计的A16 节点制程也将采用这样的生俺流程。希望透过称之为「超级电轨」的背面供电全新技术，借以提高其生产出来的芯片在人工智慧工作执行上的效能。

然而，在5 月26 日，台积电总裁魏哲家罕见没有参加2024 年技术论坛台北场的活动，而是秘密访问了ASML位于荷兰的总部。根据《韩国商报》报导，ASML 执行长Christopher Fuke 和其雷射光源设备供应商TRUMPF 执行长Nicola Leibinger-Kammüller 在社群媒体贴文中提出了魏哲家的行程内容。这使得市场传出，在英特尔拿下首批几套的High NA EUV 曝光机之后，魏哲家这次的密访动作就是表达了也希望能获得新设备的立场。

报导指出，根据台积电的既定计划，台积电预计在A16 制程技术后的产品才考虑采用High NA EUV 曝光机。然而，魏哲家密访ASML 总部的动作引发了大家的议论，特别是因为它表明有修正计划的可能性，并且是对台积电当前发展路线的更广泛的重新思考。虽然，即便获得了High NA EUV 曝光机，也不代表会在当前的制程上来使用。作为训练与技术发展关键设备，提早获得也不是不可能的方向。因此，接下来的发展情况，势必还必须要持续地进行关注。