• 产品介绍 

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• 纳米加工领域的瑞士军刀

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• 多用途的纳米光刻系统

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• eLINE Plus被广泛用于大学和研究中心，该系统有很多多功能附件可供用户选择，满足用户对电子束光刻机多功能性的要求。

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• 除具有专业的电子束光刻及成像功能，eLINE Plus还完美集成了纳米操纵设备，如纳米探针、用于聚焦电子束诱导过程的气体注入系统等各种多功能选件，这使得eLINE Plus成为世界上独特的、用途广泛的电子束光刻系统。

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• 纳米工程、纳米操纵，及聚焦电子束诱导过程

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• 先进的热场发射电子光学柱，可得到很小的小束斑尺寸

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• 开放的可升级的平台理念

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• 广泛的纳米加工工艺

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• 多种探测器，可灵活地实现对准标记识别、成像，及材料分析方面的应用

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• 独特的无写场拼接的直写模式（traxx /periodixx）

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• Raith NanoSuite软件: 集所有模块于一体的综合软件界面

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• 可扩展的科研工具理念

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• eLINE Plus具有模块可扩展的科研工具理念，用户可任意时间升级各种模块，使该系统适用于纳米研究中热门的研究方向。eLINE Plus从传统的电子束应用领域，扩展成为多功能的系统，打开了跨学科研究的大门。

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• eLINE Plus具有很小的小束斑尺寸（1.6nm）,在前沿的高分辨纳米加工中，不论是纳米曝光还是其他聚焦电子束诱导过程中都展现出无与伦比的优异性能。

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• eLINE Plus 纳米曝光应用

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  HSQ胶上制作亚5nm线条

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  高密度器件：1kB交叉型阻变式存储器

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  通过钻蚀工艺获得光子晶体隔膜器件

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  金属横向自旋阀

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  纳米光栅实现精确的神经突导航功能

• eLINE Plus 纳米工程应用

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  采用电子束诱导沉积功能生长金电极，在金电极上沉积悬空的Pt纳米线，并采用探针进行纳米线探测

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  电子束诱导沉积结构，采用轮廓仪探针进行材料生长速率的测量

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  电子束诱导沉积生长三维纳米结构

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  采用能量选择inLens背散射电子探测器探测材料对比度

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• eLINE Plus 产品详情

• 主要应用:

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• 纳米级光刻

• 纳米工程

• 纳米操纵、纳米探测、纳米轮廓仪

• 聚焦电子束诱导过程（FEBIP）

• 成像及分析

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• 电子枪技术:

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• Gemini

• 电子

• 30 kV

• Inlense二次电子探测器

• 能量选择背散射二次电子探测器（选配）

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• 样品台:

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• 4“ 移动范围

• Z轴移动范围大

• 旋转和倾斜功能（选配）

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• 独特直写模式:

• traxx长线条无写场拼接曝光模式

• periodixx周期结构无写场拼接曝光模式

选型