centrotherm c.OXIDATOR 150是一种高温炉，是商先创公司热解决方案为碳化硅（SiC）的氧化专门设计的。

工艺温度高达1500℃，可使用氧气（O2）、一氧化二氮（N2O）、氧化氮（NO）、二氧化氮（NO2）或湿法进行氧化，从而使灵活性与业经证明的工艺质量完美地结合，拥有无金属加热与双真空装备。

·氧化

设备优点

·2英寸、3英寸、4英寸与6英寸晶圆或任何组合的批量加工

·最高加热速度达到7.5度/分钟

·批量多达50片（150毫米）晶圆

·加工压力范围从850毫巴到大气压