• 产品介绍

• PhableR 100 紫外光刻机是一套低成本的光学曝光系统，但却能获得高分辨率的周期性结构。同传统的紫外曝光机类似，涂覆了光刻胶的晶片以接近方式放置在掩膜版下面，被紫外光束照射。由于Eulitha公司拥有突破性的PHABLE曝光技术，在"PHABLE"模式下，分辨率不再受到衍射的限制，从而曝光出亚微米的线性光栅和二维光栅（六角形和正方形），且曝光结果非常均匀，质量很好；在"mask aligner"模式下，能非常轻松地获得微米尺寸的图形。

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• 特点

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• 可达到步进光刻机的高分辨率

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• 操作简单性与紫外曝光机相同

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• 光子图形化的低成本解决方案

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• 优势

• 高分辨率（低于300nm pitch）

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• 全场曝光

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• 非接触式：防止掩膜受损及被污染

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• 焦深几乎没有限制

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• 表面不平的衬底也适用（如外延片）

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• 均匀性高

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• 具有套刻对准能力

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• 商业化的可获得的光刻胶和材料都适用

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• 使用传统的掩膜板（玻璃上镀铬）

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• 频率倍增

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• 应用

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• LED光萃取层

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• 蓝宝石衬底图形化（PSS）

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• 磁性纳米结构

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• 减反射图形

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• 太阳能光伏

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• 电通讯光栅

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• 光谱仪光栅

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• 等离子图案

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• 编码器标尺

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• 滤色镜

• 生物传感器

选型