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AZ 光刻胶选型
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AZ 光刻胶选型

• 光刻胶性能优异,种类繁多,满足不同工艺的多样性要求 • 包装规格灵活多样 (30ml, 100ml, 250ml, 500ml, 1L, 2.5L 等 ),适合多种规模的科研 / 生产需求 • 交货周期短,订购流程简单快捷 • 可提供专业的技术咨询服务 • 可为用户研发定制特殊功能的光刻胶

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    • 光刻胶性能优异,种类繁多,满足不同工艺的多样性要求 • 包装规格灵活多样 (30ml, 100ml, 250ml, 500ml, 1L, 2.5L 等 ),适合多种规模的科研 / 生产需求 • 交货周期短,订购流程简单快捷 • 可提供专业的技术咨询服务 • 可为用户研发定制特殊功能的光刻胶


    • G线/ I线/G线I线通用光刻胶系列 


    • AZ 1500系列---高感光度标准G线正型光刻胶---High Sensitivity Standard g-line Positive-tone Photoresist

    • AZ 6100系列---高感光度高耐热性G线正型光刻胶---High Sensitivity & High Heat Stability g-line Positive-tone Photoresist

    • AZ 3100系列---高感光度高附着性G线I线通用正型光刻胶---High Sensitivity & High Adhesion g/i Cross-over Positive-tone Photoresist

    • AZ GXR600系列---高感光度高附着性G线I线通用正型光刻胶---High Sensitivity & High Adhesion g/i Cross-over Positive-tone Photoresist

    • AZ 5200E系列---应用于Iift - off工艺图形反转正/负可转换I线光刻胶---Image Reversal Pattern Posi/Nega Convertible Photoresist

    • AZ MIR700系列---高感光度中解像度I线正型光刻胶---Medium~High Resolution i-line Positive-tone Photoresist

    • AZ MIR900系列---厚膜高感光度高解像度I线正型光刻胶---Thick-film High Resolution i-line Positive-tone Photoresist for High-dose Implantation Process


    • DUV光刻胶系列 


    • AZ DX3200P系列---应用于通孔图形的KrF正型光刻胶---KrF Excimer Laser Positive-tone Photoresist for Contact Hole

    • AZ DX5200P系列---应用于沟槽及通孔图形的超高分辨率KrF正型光刻胶---KrF Excimer Laser Positive-tone Photoresist for Contace Hole and Trench


    • 厚膜光刻胶系列 


    • AZ P4000系列---超厚膜高感光度标准G线正型光刻胶---Ultra Thick Film High Sensitivity g-line Standard Positive-tone Photoresist


    • AZ 10XT系列---应用于电镀工艺的超厚膜,高分辨率I线正型光刻胶---Ultra Thick Film High Resolution i-line Standard Positive-tone Photoresist for Plating Process

    • AZ PLP系列---应用于高精度电镀工艺的超厚膜正型光刻胶---Ultra Thick Film Positive-tone Photoresist for Fine-Pitch Plating Process

    • 防反射涂层/RELACS系列

    •  

    • AZ AQUATAR系列---应用于超高分辨率图形加工的顶部防反射涂层---Top Anti Reflective Coating for Ultra High Resolution Patterning

    • AQUATAR-Ⅷ系列---Non PFOS和Non PFOA的顶部防反射涂层---Non PFOS and Non PFOA type Top Anti Reflective Coating Materials

    • AZ BARC材料---应用于超高分辨率图形加工的底部防反射涂层---Bottom Anti Reflective Coating for Ultra High Resolution Patterning

    • AZ Relacs涂布材料---应用于超高分辨率图形加工的光刻胶收缩材料---Resist Shrinking Material for Ultra High Resolution Patterning


    • 特殊用途光刻胶系列 


    • AZ 8100系列---应用于TAB制造和柔性衬底工艺的正型光刻胶---Positive-tone Photoresist for TAB manufacturing and Process on Flexible Substrate

    • AZ P1350系列---应用于光罩制造及光媒介原盘制造的旋涂正型光刻胶---Positive-tone Photoresist for Photo-mask & Stamper of Photo-media by Spin Coating


    • 液晶显示器/平板显示器用光刻胶系列

    •  

    • AZ TFP300系列---应用于液晶面板制造的旋涂式正型I线光刻胶---Spin Coating Positive-tone Photoresist for Flat Panel Display

    • AZ TFP600系列---应用于液晶面板制造的超高感光度,旋涂式正型光刻胶---Ultra High Sensitivity Spin Coating Positive-tone Photoresist for Flat Panel Display

    • AZ SFP系列---应用于第五代液晶面板制造的旋涂式正型光刻胶---Spin Coat Positive-tone Photoresist for 5th Generation Flat Panel Displays

    • AZ SR系列---应用于第五代以上液晶面板制造的Spin-less涂布正型光刻胶---Spin-less Coat Positive-tone Photoresist for over 5th Generation Flat Panel Displays

    • AZ RFP系列---应用于液晶面板制造的辊式涂布正型光刻胶---Roll Coat Positive-tone Photoresist For Flat Panel Display

    • AZ CTP系列---应用于有机电致发光显示器阴极隔离的负型光刻胶---Negative-tone Resist for Cathode Separator on Organic EL Display


    • 辅助化学品系列 


    • 显影液及其他相关化学品---Developers,and other ancillary chemicals

    • 剥离液---Removers for Positive-Tone Photoresist and side-wall polyme