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PhableR 100 紫外光刻机
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PhableR 100 紫外光刻机

  • 可达到步进光刻机的高分辨率

  • 操作简单性与紫外曝光机相同

  • 光子图形化的低成本解决方案



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商品参数
    商品描述
    • 可达到步进光刻机的高分辨率

    • 操作简单性与紫外曝光机相同

    • 光子图形化的低成本解决方案




    • 产品介绍

    • PhableR 100 紫外光刻机是一套低成本的光学曝光系统,但却能获得高分辨率的周期性结构。同传统的紫外曝光机类似,涂覆了光刻胶的晶片以接近方式放置在掩膜版下面,被紫外光束照射。由于Eulitha公司拥有突破性的PHABLE曝光技术,在"PHABLE"模式下,分辨率不再受到衍射的限制,从而曝光出亚微米的线性光栅和二维光栅(六角形和正方形),且曝光结果非常均匀,质量很好;在"mask aligner"模式下,能非常轻松地获得微米尺寸的图形。


    • 特点


    • 可达到步进光刻机的高分辨率


    • 操作简单性与紫外曝光机相同


    • 光子图形化的低成本解决方案


    • 优势

    • 高分辨率(低于300nm pitch)


    • 全场曝光


    • 非接触式:防止掩膜受损及被污染


    • 焦深几乎没有限制


    • 表面不平的衬底也适用(如外延片)


    • 均匀性高


    • 具有套刻对准能力


    • 商业化的可获得的光刻胶和材料都适用


    • 使用传统的掩膜板(玻璃上镀铬)


    • 频率倍增


    • 应用


    • LED光萃取层


    • 蓝宝石衬底图形化(PSS)


    • 磁性纳米结构


    • 减反射图形


    • 太阳能光伏


    • 电通讯光栅


    • 光谱仪光栅


    • 等离子图案


    • 编码器标尺


    • 滤色镜

    • 生物传感器


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