苏州美明电子
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可达到步进光刻机的高分辨率
操作简单性与紫外曝光机相同
光子图形化的低成本解决方案
PhableR 100 紫外光刻机是一套低成本的光学曝光系统,但却能获得高分辨率的周期性结构。同传统的紫外曝光机类似,涂覆了光刻胶的晶片以接近方式放置在掩膜版下面,被紫外光束照射。由于Eulitha公司拥有突破性的PHABLE曝光技术,在"PHABLE"模式下,分辨率不再受到衍射的限制,从而曝光出亚微米的线性光栅和二维光栅(六角形和正方形),且曝光结果非常均匀,质量很好;在"mask aligner"模式下,能非常轻松地获得微米尺寸的图形。
高分辨率(低于300nm pitch)
全场曝光
非接触式:防止掩膜受损及被污染
焦深几乎没有限制
表面不平的衬底也适用(如外延片)
均匀性高
具有套刻对准能力
商业化的可获得的光刻胶和材料都适用
使用传统的掩膜板(玻璃上镀铬)
频率倍增
LED光萃取层
蓝宝石衬底图形化(PSS)
磁性纳米结构
减反射图形
太阳能光伏
电通讯光栅
光谱仪光栅
等离子图案
编码器标尺
滤色镜
生物传感器