产品简介：
EVG 610是一款入门级光刻机，支持接近式、软接触、硬接触、真空接触4种曝光方式，可选配背面对准模块。也可用于键合对准及纳米压印光刻（NIL），是科研开发用户的理想选择。
主要特点及参数：
·最大支持8英寸（200mm）晶圆
·顶部及底部对准：
顶部对准精度≤±0.5μm
底部对准精度≤±2μm
红外对准精度≤±2μm（取决于衬底材料）
键合对准精度≤±2μm
纳米压印对准精度≤±2μm
·支持汞灯或UV-LED光源
·自动楔形补偿程序
·可选配功能：
键合对准
红外对准
纳米压印光刻（NIL）
