产品简介：

EVG 620NT是一款通用性和可靠性强的光刻机，提供先进的掩膜对准技术。可选择半自动或全自动配置，满足大批量生产和Fab标准。

主要特点及参数：

·最大支持6英寸（150mm）晶圆

·支持易碎、薄片及翘曲晶圆的处理，可快速转换多尺寸晶圆

·全自动顶部及底部对准：

顶部对准精度≤±0.5μm

底部对准精度≤±1μm

红外对准精度≤±2μm（取决于衬底材料）

·支持汞灯或UV-LED光源

·支持半自动原位升级为全自动

·可选配功能：

键合对准

红外对准

纳米压印光刻（NIL）

选型