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Picosun R-200系列ALD原子层沉积体统
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Picosun R-200系列ALD原子层沉积体统

Picosun R-200系列原子层沉积体统是一款多种能的原子层沉积平台

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    商品描述

    Picosun R-200系列原子层沉积体统是一款多种能的原子层沉积平台

    产品简介：


    Picosun R-200系列原子层沉积体统是一款多种能的原子层沉积平台，是用于研发的理想选择，适用于IC器件、MEMS器件、显示器、led、激光、3D物体如镜片、光学、珠宝、硬币、医疗植入物等数十种应用的研发。
     

    主要技术参数：


    ·适用2-8inch的单片晶圆；


    ·工艺温度：50-500℃，Advance型号配有等离子处理系统，工艺温度450℃（可选配特定chuck盘至650℃）；


    ·适用镀膜种类：Al2O3, TiO2, SiO2, Ta2O5, HfO2, ZnO, ZrO2, AlN, TiN，Pt，Ir等；


    ·手动上料，可选配机械臂，搬运机器人或Cassette-to-Cassette上料；


    ·前驱体种类：液体，固体，气体，等离子体，臭氧体等；


    选型

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    R-200面议有货