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用于研发的纳米压印系统Eitre纳米压印系统提供了灵活的并且高效节约的压印解决方案。
这一系统非常适合于研发方面的使用,可以获得微米和纳米级的图案复制。
在所有纳米压印系统中使用的SPT 专利技术,这种技术可以进行整体压印,能够在微米和纳米尺度进行有效的图案复制。
SPT 技术通过气压而不是刚性的活塞将压力施加到模版和基底上,可以不受基底尺寸和形状限制地确保全部压印区域的压力一致,这对整体结构于高分辨率及高效节约的纳米压印完整性至关重。
STU紫外及热同时压印
STU 技术能够同时结合紫外和热进行纳米压印,在恒定的温度下可以将完整的压印序列复制到紫外固化的热塑性预聚体。
这种技术主要是为了解决模版和基底材料之间不同热膨胀所引发的问题。
可以让您在使用任一种基底和模版材料时都能够高效节约地进行研究工作。
IPSTM中间聚合物模版
IPSTM专利压印技术可以通过两个步骤进行污染控制和增加模版的使用寿命,这可以避免模版与硬基底之间的接触。
取而代之的是能够将模版上压印结构复制到目标基底上的一种软中间聚合物模版上。
因此 IPSTM 专利压印技术极大地影响了与纳米压印相关的整体费用,使得我们的生产解决方案在市场上具有最高效节约的优势。
热压印系统
紫外压印系统
温度范围:至200℃
配置:高压腔体
温度稳定度:± 1%
电脑控制
温度设置精度:± 2℃
波长:标准250 nm – 450 nm
最大温升:0.5 - 1 K/sec
功率:40 – 100 mW / cm2
制冷方式: 空气冷却
曝光时间设定:最小0.2秒
压印精度:± 10 nm
曝光区域:3 inch Ø
最大压强:≦ 70 bar
最大温度:200℃
模版尺寸:≦ 77 mm Ø (最大厚度:1 mm)
压印尺寸:77 mm Ø
基座尺寸:10 - 77 mm Ø
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