• 产品介绍

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• 高性能电子束曝光机

• 自动化高速度的高精度电子束曝光技术

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• EBPG5200是一款高性能的纳米光刻系统，拥有完整200mm尺寸的光刻能力，这款电子束光刻系统代表了不断进化的高度成功和广为市场接受的EBPG系列产品。它提供了不同用途的解决方案，包括纳米尺度的电子束直写和大学研究所，以及商业化的生产力中心研发用的掩膜版制作。

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• 同时，系列产品还包括新的EBPG5150电子束直写系统，使用了相同的平台设计，是一款155mm*155mm尺寸平台的系统。

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• 特点

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• 高束流密度，热场发射电子枪可以在20、50和100kV之间切换

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• 200mm的平台可以曝光完整8英寸的硅片或者7英寸的掩膜版

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• 曝光特征尺寸小于8nm

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• 高速度曝光，可采用50或100MHz的图形发生器

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• 在所有KVs加速电压下，可连续改变的写场大小，可以到1mm

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• GUI人机交互界面友好，简洁易用，适用于多用户环境

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• 多项灵活可选择的配置，可以适用于不同应用的需求

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• 模块化的系统架构

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• 模块化的系统架构设计，可以让用户根据需要选择配置，可以在将来技术升级的时候，保护用户的初始投资，提供不同类型的升级策略。

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• 主要应用：

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• 100KV高加速电压可用于曝光高深宽比纳米结构

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• 高速电子束直写

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• 批量生产， 如化合物半导体器件

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• 防伪标识

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• 电子光学柱技术：

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• EBPG

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• 电子束

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• 100 kV

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• 样品台：

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• 覆盖完整8英寸硅片大小

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• Z轴垂直高度大范围可调(可选)

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• 10工位自动上料

选型