• 产品介绍

• 电子束直写系统自动化和高速度的电子束直写技术

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• 电子束直写系统EBPG5150使用了155mm大小的样品台，采用跟电子束曝光机EBPG5200一样的通用光刻平台设计，对电子束直写应用进行了优化。它可以载入不同大小的样品,包括多片散片以及完整的硅片。 

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• 特点

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• 高束流密度，热场发射电子枪可以在20、50和100kV之间切换

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• 155mm的平台

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• 曝光特征尺寸小于8nm

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• 高速度曝光，可采用50或100MHz的图形发生器

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• 在所有KVs加速电压下，可连续改变的写场大小，可以到1mm

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• GUI人机交互界面友好，简洁易用，适用于多用户环境

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• 多项灵活可选择的配置，可以适用于不同应用的需求

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• 可选的系统增强升级

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• EBPG5150可以选择不同的升级选项，以满足用户不同的技术和预算需求。让全世界的高校等研究类用户也可以使用这款非常先进、高自动化的电子束光刻系统。

  
  

  
  

  电子束直写系统EBPG5150 应用

  
  

        

  
  

• 100KV高加速电压可用于曝光高深宽比纳米结构

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• 高速电子束直写

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• 批量生产，如化合物半导体器件

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• 防伪标识

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• 电子光学柱技术：

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• EBPG

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• 电子束

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• 100 kV

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• 样品台：

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• 覆盖完整6英寸硅片大小

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• 标配2工位自动化上料

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• (10工位可选)

选型