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EVG 101涂胶/喷胶/匀胶系统
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EVG 101涂胶/喷胶/匀胶系统

EVG 101是一款适合于研发的单腔晶圆涂胶显影设备，可用于喷胶、旋涂和显影，可在三维结构晶圆上完成光刻胶或聚合物的涂覆，并保持高均匀性。

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    商品描述

    EVG 101是一款适合于研发的单腔晶圆涂胶显影设备，可用于喷胶、旋涂和显影，可在三维结构晶圆上完成光刻胶或聚合物的涂覆，并保持高均匀性。

    产品简介：


    EVG 101是一款适合于研发的单腔晶圆涂胶显影设备，可用于喷胶、旋涂和显影，可在三维结构晶圆上完成光刻胶或聚合物的涂覆，并保持高均匀性。

     

    主要特点及参数： 


    ·最大可适用于12寸（300mm）晶圆


    ·手动装片，自动喷涂/旋涂，自动清洗腔室内残胶


    ·适用光刻胶范围广泛，粘度可达52000cp


    ·基片最大转速：10000r/min


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