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EVG 6200NT光刻机
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EVG 6200NT光刻机

EVG 6200NT是620NT的增强型,提供先进的掩膜对准技术。可选择半自动或全自动配置,满足大批量生产和Fab标准。

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商品参数
    商品描述

    EVG 6200NT是620NT的增强型,提供先进的掩膜对准技术。可选择半自动或全自动配置,满足大批量生产和Fab标准。


    产品简介:


    EVG 6200NT是620NT的增强型,提供先进的掩膜对准技术。可选择半自动或全自动配置,满足大批量生产和Fab标准。

     

    主要特点及参数:


    ·最大支持8英寸(200mm)晶圆


    ·支持易碎、薄片及翘曲晶圆的处理,可快速转换多尺寸晶圆


    ·全自动顶部及底部对准:


    顶部对准精度≤±0.5μm


    底部对准精度≤±1μm


    红外对准精度≤±2μm(取决于衬底材料)


    ·支持汞灯或UV-LED光源


    ·支持半自动原位升级为全自动


    ·可选配功能:


    键合对准


    红外对准


    纳米压印光刻(NIL)


    选型

    型号价格

    库存

    EVG 6200NT面议有货