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EVG IQ Aligner光刻系统
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EVG IQ Aligner光刻系统

EVG IQ Aligner是一款高自动化的光刻工艺平台,可集成多种高精度对准技术,可对应在晶圆及多种基板上的应用,适用于大型生产线。

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    商品描述

    EVG IQ Aligner是一款高自动化的光刻工艺平台,可集成多种高精度对准技术,可对应在晶圆及多种基板上的应用,适用于大型生产线。


    产品简介:


    EVG IQ Aligner是一款高自动化的光刻工艺平台,可集成多种高精度对准技术,可对应在晶圆及多种基板上的应用,适用于大型生产线。

     

    主要特点及参数:


    ·最大支持8英寸(200mm)晶圆


    ·支持易碎、薄片及翘曲晶圆的处理


    ·全自动顶部及底部对准:


    顶部对准精度≤±0.5μm


    底部对准精度≤±1μm


    ·支持Casettes, SMIF或FOUP上料


    ·可选配功能:


    红外对准(透射或反射)


    选型

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    EVG IQ Aligner面议有货