苏州美明电子
MeimingIC.com
EVG 610(NIL)是一款基于EVG610光刻机的紫外纳米压印设备,可针对压印、光刻、对准功能进行快速转换。
·最大支持6英寸(150mm)晶圆
·最高分辨率可达40nm(取决于模版和工艺条件)
·支持汞灯或UV-LED光源
键合对准
红外对准
纳米压印光刻(NIL)
微接触印刷