尺寸：1—12英寸；定制尺寸；

晶向：<100>、<111>、<110>、<211>等和偏角度；

氧化层厚度：几纳米至几十微米；

表面：单面、双面氧化；

类型：N型/掺磷；P型/掺硼；区熔FZ本征高阻；

电阻率：按客户要求定制；

氧化工艺：干氧、湿氧、干湿结合、高压氧化、PECVD；

出货速度：长期备有大量现货，当天出库；

订制能力：各种参数均可订制；

经营：国内高质硅片，可提供日本、美国等大厂硅片；

用途：刻蚀率测定、金属打线测试、电性绝缘层。